Завод «Микрон», расположенный в ОЭЗ «Технополис Москва», приступил к испытаниям отечественного фоторезиста, разработанного Научно-исследовательским институтом микроэлектроники (НИИМЭ). Этот фоторезист предназначен для изготовления микросхем по технологии 90 нм.

Новый фоторезист, выполненный на полимерной основе, играет ключевую роль в процессе фотолитографии, используемом при создании интегральных схем. Нанесенный на кремниевые пластины, он подвергается воздействию света через специальную маску, формируя на поверхности рисунок будущей микросхемы.

Завод «Микрон» ставит перед собой цель перехода на полное использование российских компонентов в области чистых и инновационных материалов. На данный момент «Микрон» является единственным российским производителем микросхем с разрешением 180–90 нм. Продукция завода применяется в различных сферах, включая банковские карты, заграничные паспорта и водительские удостоверения.

Специалисты НИИМЭ подчеркивают, что российский фоторезист способен соперничать с иностранными аналогами. Институт активно развивает собственную линейку специализированных материалов: на сегодняшний день создано семь решений, еще десять находятся в стадии разработки, а три новых направления исследований готовятся к запуску.