Минпромторг России намерен провести два конкурса опытно-конструкторских работ (ОКР) по освоению производства материалов для электронно-лучевой и взрывной литографии. Речь идет о полном цикле работ — от теоретических исследований до освоения серийного производства. Завершить ОКР планируется до ноября 2029 года.

В рамках первого конкурса разработают 12 типов материалов для электронно-лучевой литографии. Они должны стать функциональными аналогами продукции немецких Allresist GmbH, Microresist technology GmbH, японской ZEON и американской MicroChem Corporation.

В ходе второго — создадут 7 типов материалов для взрывной литографии (серия ВЛ), которые заменят решения американской MicroChem Corporation — серии LOR 5B, LOR 10B, LOR 20B, PMGI SF6, PMGI SF9, PMGI SF11, LOR 5A.

Такие материалы используются при производстве электроники, в том числе работающей в СВЧ-диапазоне. Наиболее критично наличие таких материалов для фотошаблонов, телеком-оборудования и специализированных компонентов.

В марте 2026 года сообщалось, что Минпромторг России может ужесточить критерии локализации компонентов печатных плат.