Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) разработал литографическую установку, предназначенную для работы в диапазоне 130 нм с пластинами диаметром 150 и 200 мм и длиной волны 248 нм. Скорость обработки составляет от 100 до 140 пластин в час. Новое оборудование ориентировано на производство фотонных интегральных схем.

Разработчики планируют завершить работу над проектом к концу 2026 года, а начало поставок первых серийных образцов запланировано на 2028 год. К 2030 году ожидается поставка нескольких экземпляров российским предприятиям, занимающимся производством микроэлектроники.

По заявлению представителей разработчика, российская разработка может успешно конкурировать с западными аналогами, в том числе за счет снижения цены. Предполагается, что стоимость установки будет составлять порядка $6 млн, что на 40–60% ниже стоимости аналогичных решений иностранных производителей.

Представитель ГК «Элемент» отметил, что «установка такого типа сегодня наиболее критична для технологического процесса <…> Параметры литографа соответствуют тем, которые востребованы для производства микроэлектроники».

В ЗНТЦ отмечают, что потребность в таких установках для отечественного рынка составит около 15–25 единиц оборудования.