НИИ НПО «ЛУЧ» (входит в «Росатом») разработает установку контроля процесса ионного легирования в структурах полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм. Оборудование должно заменить американские системы KLA-Tencor, которые используются для контроля ключевого процесса внедрения примесей в чипы.

Также ожидается применение искусственного интеллекта для автоматического распознавания топологического рисунка на продуктовых пластинах, построения калибровочных кривых и расчета уровня имплантационной дозы.

Опытно-конструкторские работы планируется выполнить до октября 2029 года.

В июле сообщалось, что «Росатом» создаст отечественную установку для основы корпусов микроэлектронных компонентов.