Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в ГК «Элемент», разработали российские кластерные системы для выпуска интегральных схем с топологическими нормами 65 нм на подложках 200 и 300 мм.

Основным исполнителем проекта выступил НИИМЭ, который обеспечил разработку технологических процессов и их испытания. НИИТМ спроектировал оборудование и участвовал в тестировании новых решений.

В Минпромторге России отметили значимость установок для обработки пластин диаметром 300 мм, обеспечивающих потребности отечественного рынка электроники в современных технологиях. По словам представителя ведомства, особую ценность представляет модульность платформы, поскольку она позволяет реализовывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более совершенным техпроцессам.