В 2026 году в столице планируется открыть научно-технологический центр по изготовлению фотошаблонов, производственная мощность которого составит 10 тыс. изделий в год. Первым этапом станет создание изделий 350 и 250 нм.

На 2027 год намечен следующий этап, предусматривающий разработку фотошаблонов 180 нм и начало серийного выпуска по технологическому процессу 350 нм. В 2028 году в плане разработка фотошаблонов 90 нм и выпуск 250 нм, в 2029 году — выпуск 180 и 90 нм. К 2030 году ожидается выпуск фотошаблонов 65 нм. В перспективе запланировано освоение изготовления фотошаблонов 28 нм.

Новый центр будет работать в технологической цепочке, которую возглавляет компания «Лассард», специализирующаяся на производстве синтетического кварцевого стекла. Российский федеральный ядерный центр будет изготовлять подложки из этого материала.

Основными потребителями шаблонов станут производитель электроники «Микрон», компания «НМ-Тех», Институт молекулярной электроники и другие. Реализация проекта осуществляется при поддержке правительства Москвы, Московского института электронной техники, Минпромторга России и других ведомств.