Правительство России утвердило балльную систему оценки оборудования при производстве микроэлектроники. Мера необходима для признания такой продукции российской.

Утвержденное постановление вводит балльную систему для восьми категорий оборудования. Среди них установки для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур, литографы, установки ионной имплантации, оборудование для производства полупроводниковых слитков и другие.

Для всех типов оборудования обязательными условиями остаются наличие у производителя прав на конструкторскую документацию, сервисный центр в ЕАЭС, а также сборка, установка и отладка ПО на территории России. За выполнение этих требований баллы не начисляются, но без них оборудование не может быть признано российским.

Для каждого вида станков установлены минимальные пороги баллов с поэтапным ужесточением. Для эпитаксиального оборудования минимальный порог вырастет с 130 до 250 баллов, для литографического — с 80 до 170 баллов, для установок ионной имплантации — с 180 до 210 баллов (с 2029 года).

Для оборудования термической обработки пластин порог повысится с 80 до 170 баллов, для установок формирования тонкопленочных структур — с 90 до 250 баллов, для лазерного оборудования — с 70 до 160 баллов, а для полировальных и шлифовальных машин — с 90 до 210 баллов.

Первый этап требований начнет действовать с сентября 2026 года, второй — с 2029 года, оставшиеся требования вступят в силу с 2032 года.

В марте сообщалось, что Минпромторг России может ужесточить критерии локализации компонентов печатных плат.