Российская команда при поддержке НТИ представила проект многолучевого электронного литографа. Предполагается, что он способен сократить время экспонирования кремниевой пластины (нанесение рисунка на ее поверхность) с 1,5–2 недель до нескольких минут.

В основе установки лежит мультикатод. Это единый источник, формирующий множество электронных лучей вместо одного, как в традиционных электронных литографах.

На данный момент речь идет о завершенном этапе научно-исследовательских работ. Сам литограф предстоит создать в рамках опытно-конструкторской разработки. При этом ключевой элемент системы — мультикатод — уже изготовлен и прошел испытания.

«Мы разработали сквозную технологию создания мультикатода и подтвердили ее работоспособность на практике. Нам удалось получить массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра — это один из лучших результатов в мире», — рассказал главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов.

По его словам, главным преимуществом перед существующими многолучевыми решениями стал способ формирования самих электронных источников. В отличие от зарубежных систем, использующих сложные схемы расщепления одного луча с большим количеством зеркал и оптических затворов, российская разработка создает сразу множество независимых источников электронов на единой подложке. Такой подход снижает требования к инфраструктуре, энергопотреблению и стоимости оборудования.

Разработчики рассчитывают, что при запуске проекта первый опытный образец литографа будет создан через три года. После этого аппарат можно будет использовать для производства микросхем с различными технологическими нормами — от традиционных 350 нм до нескольких нанометров.