Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. Она предназначена для безмаскового литья — изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на кремниевых и других подложках без использования маски. Это имеет значение при производстве опытных партий, прототипов и специализированных микросхем.

На данный момент два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев. После этого запустят тесты на точность изображения и другие технологические параметры.

Разработка ведется в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».

Независимый эксперт и автор Telegram-канала RUSmicro Алексей Бойко отмечает, что «собственный электронно-лучевой литограф весьма актуальная разработка для России с типичными для нашего рынка малыми объемами заказов на микросхемы». Он также считает, что такие установки удобны для прототипирования и НИОКР, ускоряя процесс разработки и исследований.

В июле сообщалось, что Федеральный ядерный центр (входит в контур «Росатома») займется разработкой установок бондинга (процесс временного соединения) и дебондинга (разделение) полупроводниковых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм.