Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) разработает отечественный сканирующий электронный микроскоп. Его планируется использовать для контроля полупроводниковых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм. Опытный образец изготавливается для пластин 200 мм.

Разрабатываемое оборудование предназначено для неразрушающего измерения критических размеров элементов топологического рисунка на поверхности кремниевых пластин — ширины линий, диаметров контактных отверстий, расстояний между элементами периодических структур и шероховатости края линии.

Функциональными аналогами выступают японские установки Hitachi CD-SEM S-9380 и CG4000, которые больше не поставляются в Россию. Прямых отечественных аналогов такого оборудования не существует.

В июле 2026 года ЗНТЦ разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. Она предназначена для изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на кремниевых и других подложках без использования маски.